Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика процессов реактивного ионно-плазменного травления полупроводников в галогенсодержащей плазме
Владимирова Людмила Николаевна, Дикарев Юрий Иванович, Рубинштейн Владимир Михайлович, Петраков Владимир ИвановичМова:
russian
Сторінки:
21
Файл:
PDF, 480 KB
IPFS:
,
russian0